光学干涉法同时测定二氧化硅薄膜折射率和厚度  

作　　者：何秀坤[1] 李光平[1] 王琴[1] 郑驹 阎萍[1] 

机构地区：[1]机械电子工业部第四十六研究所

出　　处：《半导体技术》1989年第6期47-49,共3页Semiconductor Technology

摘　　要：本文利用二氧化硅薄膜的光学干涉效应和可变角度反射测量装置,给出了一种同时测定薄膜折射率和厚度的新方法.薄膜折射率和厚度的测量误差分别小于5%和6%.

关 键 词：光学干涉法 二氧化硅 薄膜 厚度 

分 类 号：TN304.07[电子电信—物理电子学]