用于牙周病治疗的新型光敏剂(ZnPC-PL)的体外抗菌研究  

作　　者：陈锦灿[1] 郑瑜谦[2] 闫福华[2] 李永东[1] 袁彩[1] 石晓莉[1] 黄明东[1] 

机构地区：[1]中国科学院福建物质结构研究所结构化学国家重点实验室,中国科学院研究生院,福州市350002 [2]福建医科大学口腔医院

出　　处：《中国激光医学杂志》2005年第4期269-269,共1页Chinese Journal of Laser Medicine & Surgery

关 键 词：牙周病 光敏剂 ZnPC-PL 体外抗菌 牙龈卟啉单胞菌 四唑盐 涂板计数 

分 类 号：R781.4[医药卫生—口腔医学] R454.2[医药卫生—临床医学]