电容薄膜规的发展和现状  

Development and Current Situation of Capacitance Diaphragm Gauge

作　　者：董长昆[1] 李旺奎 

机构地区：[1]兰州物理研究所

出　　处：《真空》1995年第1期41-48,共8页Vacuum

摘　　要：本文介绍了电容薄膜规的四个发展阶段和现状．综述了各阶段的制造、性能特点。对电容规的测量原理、校准技术、特别是主要性能进行了详细讨论。并就电容规的实际使用给出了可供借鉴的操作模式。Abstract Four development stages and current situation of the capacitance diaphragm gauge(CDG)are described.Manufacturing characteristics and properties are summarized for each stages.Measuring principle, calibration techniques and main properties are discussed in detail.Some operation methode described in this paper can be used in practice

关 键 词：真空测量 真空计 薄膜真空计 

分 类 号：TB772[一般工业技术—真空技术]