二次离子质谱仪离子枪溅射速率的能量依赖关系  

作　　者：陈新 陈春华[1,2] 王佑祥[1,2] 

机构地区：[1]中科院表面物理国家重点开放实验室,北京100080 [2]中科院半导体研究所,北京100083

出　　处：《真空科学与技术》1995年第5期335-338,共4页Vacuum Science and Technology

基　　金：国家自然科学基金!69376006

摘　　要：本文绘出了MIQ－56型SIMS仪器中离子枪溅射速率和一次束能量及扫描档次的数学表达式，并且通过实验测量加以证实；同时还得到了一次束直径和束流强度的线性关系，为SIMS实验参数选择提供了有力依据。

关 键 词：二次离子质谱 溅射速率 一次离子束能量 

分 类 号：TH838.4[机械工程—仪器科学与技术]