集成电路工艺问题的SEM诊断  

Integrated circuit technical problem's SEM diagnostication

作　　者：王嵩宇[1] 单成国[1] 孙伯森[1] 

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第四十七研究所,辽宁沈阳110032

出　　处：《电子显微学报》2005年第4期389-389,共1页Journal of Chinese Electron Microscopy Society

关 键 词：扫描电镜(SEM) 工艺问题 集成电路 诊断 加固工艺 抗辐射 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学]