化学制剂对头发损伤的扫描电镜观察  

SEM observation on hair damaged by chemicals

作　　者：刘跃华[1] 陈冰松[2] 郭玉坤[1] 

机构地区：[1]中国医科大学第二电镜室,辽宁沈阳110001 [2]中国医科大学图书馆,辽宁沈阳110001

出　　处：《电子显微学报》2005年第4期412-412,共1页Journal of Chinese Electron Microscopy Society

关 键 词：扫描电镜观察 头发损伤 化学制剂 生活水平 烫发 染发 

分 类 号：TS974[轻工技术与工程]