考虑工艺参数变化的安全时钟布线算法  

作　　者：蔡懿慈[1,2] 熊焰[1] 洪先龙[3] 刘毅 

机构地区：[1]中国科学技术大学计算机科学与技术系 [2]清华大学计算机科学与技术系软件研究所,北京100084 [3]清华大学计算机科学与技术系软件研究所

出　　处：《中国科学（E辑）》2005年第8期887-896,共10页Science in China(Series E)

基　　金："八六三"国家高技术研究发展计划(2005AA1Z1230);国家自然科学基金项目(批准号:90307017)资助项目

摘　　要：在超深亚微米(VDSM)工艺下,由光刻工艺带来的光学邻近效应不可忽略,时钟偏差受到光学邻近效应等工艺参数变化的影响非常严重.提出了一种带缓冲器插入的安全时钟布线算法,来防止因光学邻近造成线宽变化对时钟系统的影响.该算法提出了“分支敏感因子”(BSF)的概念,通过构造特殊的树型拓扑结构和布线过程中的缓冲器插入等操作,达到总体布线长度和偏差灵敏度的平衡.实验结果表明,算法可以得到一个抗光学邻近效应工艺参数变化的可靠时钟布线树,时钟偏差被有效地控制在合理范围之内.

关 键 词：时钟布线 工艺参数变化 时钟偏差 分支敏感因子 缓冲器插入 时钟布线算法 光刻工艺 参数变化 安全 光学邻近效应 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学]