冷等离子体制备铝的氧化物膜  

Preparation of Aluminum Oxide Film by Cold Plasma Method

作　　者：张勇[1] 周坤粦 曹伟民[1] 文晓刚[1] 

机构地区：[1]中国科学院成都有机化学研究所

出　　处：《合成化学》1996年第2期102-104,共3页Chinese Journal of Synthetic Chemistry

基　　金：国家自然科学基金;中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑开放研究实验室资助

摘　　要：冷等离子体制备铝的氧化物膜张勇，周坤，曹伟民，文晓刚（中国科学院成都有机化学研究所，成都，６１００４１）氧化铝是一种重要的无机材料，在微电子工业、机械工业及化学工业等方面有着广泛的应用前景。采用冷等离子体制备的氧化铝膜具有独特的性能：采用干法制膜，升...This paper describes the process of preparing aluminum oxide film by postannealing alu-minum-containing organic polymer films obtained from cold plasma dissociation of aluminum acetylacetone,The film composition and structure have been determined by IR,XPS and TEM etc,The films after annealing are porous.

关 键 词：氧化铝膜 铝有机聚合物膜 冷等离子体 

分 类 号：O614.31[理学—无机化学] O484.1[理学—化学]