工艺参数对Ti和NdFeB薄膜形态的影响  

The Influences of Craft Parameter on Ti and NdFeB Films Configuration

作　　者：傅明喜[1] 李岩[1] 查燕青[1] 宗华[1] 卢永惠[1] 

机构地区：[1]江苏大学材料科学与工程学院,江苏镇江212013

出　　处：《表面技术》2005年第5期63-66,共4页Surface Technology

基　　金：江苏省教育厅高校科学研究项目(03KJD430067)

摘　　要：采用磁控溅射法制备Ti、NdFeB薄膜,并研究分析了工艺参数对Ti薄膜及NdFeB磁性薄膜表面形态的影响。试验结果表明,在一定的工艺条件下,通过对基片的加热控制可以获得单一方向生长的柱状晶结构薄膜。随着溅射功率的提高,NdFeB薄膜的沉积均匀性降低。In this paper, magnetron sputtering is used to prepare Ti and NdFeB films, and the influences of craft parameters on configuration of surface of Ti and NdFeB films are researched and analyzed. Under the given conditions, we can get films of columnar crystals of growth of single direction by controlled heating of substrate. With the increasing of sputtering power, the deposition of NdFeB films uniformity decreases.

关 键 词：薄膜 表面形态 加热控制 溅射功率 

分 类 号：TM271[一般工业技术—材料科学与工程] O484.4[电气工程—电工理论与新技术]