溅射功率

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射频功率对ITO薄膜结构及性能影响的研究
《真空》2025年第2期62-67,共6页孙冰成 张贤旺 张健 
使用射频(RF)磁控溅射技术,在耐高温石英玻璃基底上制备了氧化铟锡(ITO)透明导电氧化物薄膜,旨在优化其光电特性。通过系统调控溅射功率变量,深入剖析了该参数对ITO薄膜质量及光电性能的影响机理,之后又对薄膜进行退火处理,探究了退火...
关键词：射频磁控溅射 退火工艺 氧化铟锡 光电性能 溅射功率 
磁控溅射沉积ZnS薄膜及其性能研究
《红外》2024年第12期40-44,共5页戴永喜 郑天亮 王娇 赵凯 李乾 
采用磁控溅射技术在硅衬底上制备ZnS薄膜,探究了溅射功率对ZnS薄膜沉积速率、表面粗糙度和表面形貌的影响。采用台阶仪、原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)、扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM)、椭偏仪等表征...
关键词：磁控溅射 ZNS薄膜 沉积速率 溅射功率 微观结构 
溅射功率对MoS_(2)涂层结构及其电催化性能影响
《真空科学与技术学报》2024年第12期1084-1090,共7页姚明镜 张珂嘉 张虹 黄熠 唐国庆 但敏 金凡亚 
西物创新行动项目(202301XWCX003);乐山市科技局项目(23GZD014)。
以二硫化钼(MoS_(2))为代表的非贵金属产氢电催化剂因较高的催化性能在析氢催化方面引起广泛关注。文章采用磁控溅射法在泡沫镍(NF)基底上制备了MoS_(2)催化涂层,研究了1000 W、1500 W、2000 W和3000 W不同溅射功率对MoS_(2)涂层微观结...
关键词：溅射功率 二硫化钼涂层 结构形貌 电催化性能 
铝薄膜的制备及其性能研究
《科技创新与应用》2024年第27期90-92,96,共4页杨正华 符姣姣 姚世鹏 
采用直流磁控溅射法沉积铝薄膜,利用扫描电子显微镜(SEM)、四探针电阻测试仪和红外发射率测试仪对其形貌和性能进行表征,研究溅射功率(70、90、110、130 W)对铝薄膜的沉积速率、表面形貌、电学性能和红外发射率的影响规律。结果表明,随...
关键词：磁控溅射 铝薄膜 溅射功率 红外发射率 电学性能 
溅射功率对磁控溅射钽铬合金薄膜的影响
《辽宁化工》2024年第8期1160-1163,共4页刘姣阳 张伟强 张武 柳泉 金浩 郭策安 
辽宁省教育厅基本科研项目(项目编号:JYTMS20230191);辽宁省科技厅应用基础研究计划(项目编号:2023020243-JH2/1013)。
利用双靶磁控溅射技术,通过固定铬靶的直流功率,改变钽靶的射频功率,在CrNi3MoVA钢表面制备钽铬合金薄膜,探究溅射功率对钽铬合金薄膜的性能影响。利用扫描电镜/能谱仪和X射线衍射仪分析不同功率(80~120 W)条件下钽铬合金薄膜的沉积速...
关键词：磁控溅射 钽铬合金薄膜 溅射功率 
射频磁控溅射制备CdS薄膜性质研究
《延边大学学报（自然科学版）》2024年第2期31-38,共8页王昊民 管雪 顾广瑞 
国家自然科学基金(51272224);吉林省自然科学基金(20210101163JC)。
利用射频磁控溅射技术,在玻璃和Si(111)的基板上沉积CdS薄膜,并研究了溅射功率对薄膜的结构、光学和电学特性等影响.X射线衍射结果表明,在不同溅射功率下制备的CdS薄膜样品,均表现为在(002)方向择优生长,其晶粒尺寸和表面粗糙度均随溅...
关键词：CDS薄膜 射频磁控溅射 溅射功率 光学性质 电学性质 
溅射功率对直流磁控溅射TiAlN涂层组织和摩擦学性能的影响
《机械工程材料》2024年第5期116-122,共7页孙琛扬 王疆瑛 张高会 徐欣 
在室温下采用直流磁控溅射技术在304L不锈钢表面制备TiAlN涂层,研究了溅射功率(80,100,120,140,160 W)对TiAlN涂层组织和摩擦学性能的影响。结果表明:TiAlN涂层由面心立方结构的TiAlN相以及少量TiN和AlN相组成。随着溅射功率的增加,TiAl...
关键词：TIALN涂层 直流磁控溅射 溅射功率 摩擦学性能 
SiO_(2)溅射功率对Fe_(40)Co_(40)B_(20)-SiO_(2)软磁纳米颗粒膜磁性能的影响
《磁性材料及器件》2024年第2期1-4,共4页蒋云川 余忠 李启帆 邬传健 蒋晓娜 孙科 兰中文 
用磁控溅射法沉积Fe_(40)Co_(40)B_(20)-SiO_(2)软磁纳米颗粒膜,对其微观结构和磁性能进行了分析。研究发现,随着SiO_(2)溅射功率的增高,Fe_(40)Co_(40)B_(20)-SiO_(2)薄膜粗糙度、截止频率、磁导率、饱和磁化强度均降低,薄膜电阻率增...
关键词：Fe_(40)Co_(40)B_(20)-SiO_(2)薄膜 磁控溅射 SiO_(2)溅射功率 磁性能 电阻率 截止频率 
金属反射层制备工艺对倒装LED芯片光电性能的影响
《厦门理工学院学报》2024年第1期23-28,共6页刘智超 林海峰 郭贵田 
福建省自然科学基金项目(2022J011274)。
为了解决倒装GaN基LED芯片中金属反射层的Ag原子迁移问题,提高反射层的反射率和稳定性,采用Ag作为GaN基倒装LED芯片反射层薄膜材料;在Ag层上蒸镀TiW保护层,改变Ag反射镜制备过程中Ag/TiW溅射功率、Ar气体流量等工艺参数,研究其对LED芯...
关键词：倒装LED芯片 光电性能 金属反射层 Ag/TiW溅射功率 Ar气体流量 
氧化锌锡薄膜晶体管的制备与性能研究被引量：1
《液晶与显示》2024年第1期40-47,共8页初学峰 胡小军 张祺 黄林茂 谢意含 
吉林省科技发展计划(No.20220201068GX)。
为了提高薄膜晶体管的性能,本文基于射频磁控溅射技术,采用氧化锌锡(ZTO)材料作为沟道层,在SiO2/p-Si衬底上制备高性能ZTO薄膜晶体管。采用AFM、XRD、UV-Vis研究了溅射功率对ZTO薄膜的表面形貌和光学性能的影响。使用半导体参数仪对ZTO...
关键词：薄膜晶体管 溅射功率 XPS分析 ZTO薄膜 
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