ZNS薄膜

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磁控溅射沉积ZnS薄膜及其性能研究
《红外》2024年第12期40-44,共5页戴永喜 郑天亮 王娇 赵凯 李乾 
采用磁控溅射技术在硅衬底上制备ZnS薄膜,探究了溅射功率对ZnS薄膜沉积速率、表面粗糙度和表面形貌的影响。采用台阶仪、原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)、扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM)、椭偏仪等表征...
关键词：磁控溅射 ZNS薄膜 沉积速率 溅射功率 微观结构 
高温退火对低温硫化生长的ZnS薄膜性能的影响
《半导体光电》2024年第6期904-909,共6页王朋杰 张仁刚 张超 张鹏 曹兴忠 王宝义 
国家自然科学基金项目(11975173);武汉科技大学冶金工业过程系统科学湖北省重点实验室开放基金项目(Y201713)。
首先,采用磁控溅射法在石英玻璃衬底上沉积Zn薄膜;然后,通过低温硫化工艺制备出ZnS薄膜;其次,在500~800℃高温和氩气气氛中对样品进行1 h退火处理;最后,使用XRD,SEM,EDS和紫外-可见分光光度计等仪器,研究了退火温度对所得ZnS薄膜性能的...
关键词：ZNS薄膜 磁控溅射 硫化 光学性能 
衬底温度对柔性硫化锌薄膜结构与光学性能的影响被引量：3
《真空科学与技术学报》2023年第3期245-251,共7页李远洁 朱瑄 赵玉清 
深圳市科技计划基础研究项目(JCYJ20180306170801080)。
本文利用射频磁控溅射薄膜沉积技术在柔性聚酰亚胺(PI)、氧化铟锡(ITO)玻璃及石英玻璃衬底上制备了透明硫化锌(ZnS)薄膜。通过改变生长过程中的衬底温度,全面系统地研究了衬底温度对柔性和刚性ZnS薄膜的晶体结构、光透过率、光学常数以...
关键词：柔性ZnS薄膜 光透过率 射频磁控溅射 光学折射率 
不同硫压退火对溅射沉积ZnS薄膜性能的影响被引量：5
《物理学报》2023年第3期107-113,共7页党新志 张仁刚 张鹏 于润升 况鹏 曹兴忠 王宝义 
国家重点研发计划(批准号:2019YFA0210002);国家自然科学基金(批准号:11975173,11705212)资助的课题。
ZnS作为一种宽带隙半导体,以其优异的光电性能近年来受到广泛关注,在太阳能电池、光催化剂以及传感器方面有着广阔的应用前景.本文首先以射频磁控溅射方法沉积了ZnS薄膜,然后在600℃温度和不同硫压下进行退火,通过X射线衍射、扫描电子...
关键词：磁控溅射 硫蒸气退火 ZNS薄膜 慢正电子多普勒展宽能谱 
硫化时间对两步硫化法制备ZnS薄膜性能的影响被引量：1
《武汉科技大学学报》2022年第2期93-98,共6页张超 张仁刚 杨光 曹兴忠 张鹏 王宝义 
国家自然科学基金资助项目(11975173,11705212);武汉科技大学冶金工业过程系统科学湖北省重点实验室开放基金(Y201713).
首先采用磁控溅射法在玻璃衬底上沉积Zn薄膜,再先后于200℃和400℃温度下对Zn薄膜进行硫化处理以制备ZnS薄膜,借助X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、紫外-可见分光光度计等研究了硫化时间对所制ZnS薄膜性能的...
关键词：ZNS薄膜 磁控溅射 硫化时间 晶体结构 光透过率 S/Zn原子比 
蒸发速率对ZnS薄膜性能的影响被引量：2
《真空》2021年第2期15-19,共5页李坤 熊玉卿 王虎 张凯锋 王兰喜 周晖 
兰州空间技术物理研究所重点实验室基金(No.9140C54030313006)。
为了研究蒸发速率对ZnS薄膜的折射率、表面形貌和应力等性能的影响,本文采用电子束蒸发技术进行了ZnS薄膜的制备。首先在K9玻璃基片上镀制薄膜,采用分光光度计进行透射率曲线的测试,利用光谱反演法得出薄膜的折射率,采用原子力显微镜表...
关键词：蒸发速率 ZNS 薄膜 折射率 应力 
低温硫化制备ZnS薄膜的物理性质研究被引量：1
《原子核物理评论》2020年第3期804-808,共5页杨光 张仁刚 陈书真 柯进林 曹兴忠 张鹏 于润升 王宝义 
国家自然科学基金资助项目(11705212,11975173)。
采用磁控溅射方法先在玻璃衬底上室温下沉积Zn金属薄膜,接着先后在200和400℃温度下的硫蒸气和氩气流中进行退火,生长出ZnS薄膜。薄膜样品的微观结构、物相结构、表面形貌和光学性质分别采用正电子湮没技术(PAT)、X射线衍射仪(XRD)、扫...
关键词：ZNS薄膜 磁控溅射 低温硫化 正电子湮没谱学 
Zn沉积时间对低温硫化制备ZnS薄膜性能的影响
《电子元件与材料》2020年第5期43-48,共6页杨光 张仁刚 曹兴忠 张鹏 王宝义 
国家自然科学基金(11705212,11975173)。
采用磁控溅射方法在不同时间下沉积了Zn薄膜,接着先后在200℃和400℃温度下的硫蒸气和氩气氛中进行了低温硫化退火,时间都为1 h,最后得到不同厚度的六方相ZnS薄膜。以XRD、SEM、EDS和紫外可见分光光度计对薄膜进行表征。研究表明:随着Z...
关键词：ZNS薄膜 磁控溅射 Zn沉积时间 低温硫化 光透过率 
不同温度硫化生长ZnS薄膜的性能被引量：2
《电子元件与材料》2020年第3期33-38,共6页杨光 张仁刚 曹兴忠 张鹏 王宝义 
国家自然科学基金(11705212,11975173)。
采用磁控溅射方法在玻璃衬底上室温下沉积了Zn薄膜,接着将薄膜在硫蒸气和氩气氛中于200℃预热1 h,然后升温至250~500℃退火1 h。以XRD、SEM、EDS和紫外可见分光光度计对薄膜进行表征,并结合热力学计算结果研究了Zn薄膜硫化生长机理。Zn...
关键词：ZNS薄膜 磁控溅射 硫化 光透过率 
ZnS薄膜在532nm波长激光辐照下的光谱透射及激光损伤特性被引量：2
《西安工业大学学报》2019年第4期388-393,共6页李绵 徐均琪 王建 李候俊 苏俊宏 
陕西省教育厅重点实验室科研计划项目(16JS037);陕西省科技厅自然科学基础研究计划项目(2016JZ025)
为探究ZnS薄膜的激光辐照效应,采用热蒸发沉积技术制备了ZnS薄膜,探究了薄膜在532nm波长激光诱导辐照下,不同能量阶和不同脉冲数对薄膜折射率、消光系数、损伤形貌、表面粗糙度和激光损伤阈值的影响。研究结果表明:ZnS薄膜的平均损伤阈...
关键词：ZNS薄膜 激光辐照 折射率 激光损伤 表面粗糙度 
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