直流磁控溅射

作品数：399被引量：1142H指数：13
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直流磁控溅射参数对ITO薄膜光电性能的影响
《中国金属通报》2024年第13期186-188,共3页曾墩风 王志强 方月 曾探 
ITO薄膜作为当下应用范围最为广泛的透明导电薄膜,在众多领域发挥着关键作用.其中,磁控溅射法在制备ITO薄膜方面应用颇为广泛.通过精心优化制备工艺参数,能够进一步显著改善ITO薄膜的光学和电学性能.在本研究中,我们运用直流磁控溅射法...
关键词：ITO薄膜 直流磁控溅射 光电性能 
溅射功率对直流磁控溅射TiAlN涂层组织和摩擦学性能的影响
《机械工程材料》2024年第5期116-122,共7页孙琛扬 王疆瑛 张高会 徐欣 
在室温下采用直流磁控溅射技术在304L不锈钢表面制备TiAlN涂层,研究了溅射功率(80,100,120,140,160 W)对TiAlN涂层组织和摩擦学性能的影响。结果表明:TiAlN涂层由面心立方结构的TiAlN相以及少量TiN和AlN相组成。随着溅射功率的增加,TiAl...
关键词：TIALN涂层 直流磁控溅射 溅射功率 摩擦学性能 
磁控溅射制备碳化硼薄膜的结构与成分分析
《光学仪器》2024年第2期63-68,共6页朱京涛 刘扬 周健荣 周晓娟 孙志嘉 崔明启 
国家自然科学基金(U1932167,12175254,11875204,U2032166,11975255,12227810);中央高校基本科研业务费专项资金(22120210446,22120180070)。
近年来国际上^(3)He资源的短缺造成了基于^(3)He的中子探测器高昂的成本,而以碳化硼薄膜作为中子转换层的硼基中子探测器逐渐成为了最有前景的替代方案。通过直流磁控溅射制备了Ti/B_(4)C多层膜,并使用透射电子显微镜(TEM)、飞行时间二...
关键词：中子光学 碳化硼薄膜 直流磁控溅射 透射电子显微镜(TEM) X射线光电子能谱(XPS) 中子探测 
直流、射频磁控溅射制备钌薄膜的微观结构及电学性能分析被引量：1
《贵金属》2024年第1期1-9,14,共10页沈月 张以棚 许彦亭 巢云秀 唐可 王传军 闻明 
云南贵金属实验室科技计划重大科技专项(YPML-2023050207);云南省科技计划基础研究专项(202201AT070249);云南省基础研究计划青年项目(2019FD140);云南省重大科技专项(202102AB080008-4);云南贵金属实验室科技计划关键技术专项(YPML-2022050216);云南省科技厅科技人才和平台计划(202205AD160052);云南省张广平专家工作站(202305AF150171)
为了探索直流和射频磁控溅射制备钌薄膜的微观结构及性能差异,进而指导薄膜制备工艺优化。采用直流和射频磁控溅射法在SiO_(2)/Si(100)衬底上沉积不同时间和温度的钌薄膜;通过高分辨场发射扫描电镜、X射线衍射仪、原子力显微镜、四探针...
关键词：直流磁控溅射 射频磁控溅射 钌薄膜 微观结构 电阻率 
直流磁控溅射系统研究及其维护被引量：1
《电子工业专用设备》2024年第1期24-29,共6页吴海 张文朋 王露寒 程壹涛 
通过介绍磁控溅射镀膜系统的原理,分析了磁控溅射系统在溅射镀膜的过程中遇到的沉积速率、沉积均匀性、常见故障等方面的问题,对沉积速率和沉积均匀性的影响因素进行了具体地研究;同时描述了设备在使用过程中经常遇到的一些故障,对这些...
关键词：磁控溅射 靶 沉积速率 沉积均匀性 设备维护 
氩气和氪气磁控溅射对Zr-Co-RE薄膜微观结构和吸氢性能的影响
《真空与低温》2024年第1期83-89,共7页周超 马占吉 何延春 杨拉毛草 王虎 李得天 
甘肃省自然科学基金(23JRRA1355);甘肃省陇原青年创新创业人才项目。
为了获得吸气性能较好的Zr-Co-RE(RE为La和Ce稀土元素)吸气剂薄膜,采用直流磁控溅射方法,分别在氩气和氪气气氛中,通过改变沉积气压研究制备了不同结构的Zr-Co-RE薄膜。运用场发射扫描电镜、X射线衍射仪分析了不同溅射气压下溅射气氛对...
关键词：Zr-Co-RE薄膜 直流磁控溅射 氪气 溅射气压 微观结构 吸氢性能 
双辉等离子渗铬界面层对类石墨碳基涂层力学及磨蚀性能的影响被引量：1
《表面技术》2024年第1期169-181,共13页闫江山 郭鹏 林乃明 张应鹏 马冠水 周小卉 汪汝佳 严凯 李小凯 汪爱英 
山西省科技合作交流专项项目(202204041101021);山西省回国留学人员科研资助项目(2020-035);中科院海洋新材料与应用技术重点实验室/浙江省海洋材料与防护技术重点实验室开放课题(2021K03)。
目的 研究渗铬界面层对铬/类石墨碳(Cr/Graphite-Like Carbon,GLC)复合涂层力学性能、结合强度及磨蚀行为的影响,阐明Cr/GLC复合涂层的抗磨蚀机理。方法 以316L不锈钢(316L)为基体,先借助双辉等离子表面合金化(DGPSA)技术制备渗铬界面层...
关键词：双辉等离子表面合金化 直流磁控溅射 类石墨碳 渗铬界面层 结合强度 磨蚀 
不同偏压下DCMS和DCMS/HiPIMS共溅射铜薄膜的结构和性能
《西南科技大学学报》2023年第3期1-7,29,共8页黄敏 易勇 刘艳松 谢春平 何智兵 
国家自然科学基金(21875061)。
采用DCMS(直流磁控溅射)和DCMS/HiPIMS(直流磁控溅射/高功率脉冲磁控溅射)共溅射在不同负偏压下沉积铜薄膜,使用X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、白光干涉仪、纳米压痕技术和四点探针法对薄膜的晶体取向、形貌、粗糙度、力学和电学...
关键词：直流磁控溅射 高功率脉冲磁控溅射 铜薄膜 衬底偏压 硬度 电阻率 
氮含量对直流磁控溅射(TiAlTaCrZr)N涂层力学及钛合金切削性能的影响被引量：1
《稀有金属材料与工程》2023年第6期2141-2146,共6页李超 杜菲菲 吕汶璋 李显亮 李国建 王强 
国防基础科研计划项目(JCKY2020110C004)。
为了解决传统刀具耐磨涂层导热性差的问题,采用直流磁控溅射方法,在不同氮气流量下制备了(TiAlTaCrZr)N涂层,研究了氮含量对涂层微结构和硬度、结合力、导热等性能的影响。随着氮气流量的增加,涂层中N含量增加,涂层微观结构会由纳米晶...
关键词：刀具涂层 高熵合金 力学性能 钛合金切削 
Nb/Al-AlO_(x)/Nb约瑟夫森结薄膜沉积研究被引量：1
《计量学报》2023年第5期765-770,共6页高鹤 王仕建 徐达 李劲劲 王雪深 钟青 
中国计量科学研究院基本科研业务(AKY1946,AKYZD2012,AKYZZ2124)。
Nb/Al-AlO x/Nb约瑟夫森结构成的低温超导器件有着广泛应用,高质量的S-I-S约瑟夫森结制备的关键之一在于制备高质量的三层膜。三层膜的质量可由许多属性参数影响,比如剩余电阻比R.R.R、超导转变温度T c、表面粗糙度、应力、铝膜厚度等...
关键词：计量学 约瑟夫森结 Nb/Al-AlO_(x)/Nb三层薄膜沉积 直流磁控溅射 氧化工艺 
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