张健

作品数：23被引量：16H指数：3
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射频功率对ITO薄膜结构及性能影响的研究
《真空》2025年第2期62-67,共6页孙冰成 张贤旺 张健 
使用射频(RF)磁控溅射技术,在耐高温石英玻璃基底上制备了氧化铟锡(ITO)透明导电氧化物薄膜,旨在优化其光电特性。通过系统调控溅射功率变量,深入剖析了该参数对ITO薄膜质量及光电性能的影响机理,之后又对薄膜进行退火处理,探究了退火...
关键词：射频磁控溅射 退火工艺 氧化铟锡 光电性能 溅射功率 
脉冲电流和溅射气压对轴瓦内表面制备Al-Sn-Cu薄膜的影响
《机械工程师》2024年第12期35-38,共4页唐玉峰 张健 唐智聪 
国家科技型中小企业技术创新基金(2022210101000301)。
通过脉冲直流磁控溅射技术在铜合金轴瓦内表面制备Ni过渡层后制备Al-Sn-Cu薄膜。为了得到更好的薄膜制备工艺,利用SEM扫描电子显微镜和EDS能谱仪对制得的Al-Sn-Cu薄膜表面进行检测分析,探究了溅射气压、脉冲直流电源的电流及Ni过镀层对...
关键词：磁控溅射 溅射气压 脉冲电流 表面形貌 
退火温度对ITO/Cu/AZO透明导电薄膜结构及性能的影响
《微纳电子技术》2024年第11期155-162,共8页孙冰成 张健 张贤旺 于尉 
采用射频与直流磁控交替溅射法在石英玻璃载玻片上制备了氧化铟锡(ITO)/Cu/Al掺杂ZnO(AZO)(45 nm/10 nm/45 nm)组合结构的透明导电薄膜,并在不同退火温度下对薄膜进行真空热处理。利用X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见分光光度计、四探针电...
关键词：磁控溅射 真空热处理 氧化铟锡(ITO)薄膜 Al掺杂ZnO(AZO)薄膜 交替溅射法 
磁控溅射工艺对纳米铜薄膜的影响
《机械工程师》2024年第8期45-48,53,共5页宗世强 张健 徐全国 
国家科技型中小企业技术创新基金(2022210101000301)。
在磁控溅射设备上,通过改变工艺参数在硅片上镀20 nm左右的纳米铜膜,研究了斜溅射靶的不同角度变化和直溅射靶的溅射温度对纳米铜薄膜的性能影响。使用SEM、EDS、台阶仪、四探针设备对铜薄膜的表面形貌、均匀性、元素种类与含量以及导...
关键词：磁控溅射 铜膜 影响参数 导电性 均匀性 
溅射气压对铜基复合薄膜结合性能的影响
《辽宁化工》2024年第7期1005-1007,1011,共4页徐全国 张健 宗世强 
国家科技型中小企业技术创新基金项目(项目编号:2022210101000301)。
采用直流磁控溅射的方式,在镀有镍层的铜箔基底上改变设备溅射气压分别沉积铬、钴、钛薄膜,再用水电镀在这3种薄膜表面制备铜膜,对薄膜的表面能和结合力进行研究,用达因法和万能拉力仪进行检测。结果表明:随着溅射气压的增大,铬薄膜的...
关键词：磁控溅射 结合力 表面能 溅射气压 
磁控溅射法制备ITO膜层及其光电性能研究被引量：5
《真空》2022年第6期45-50,共6页张健 齐振华 李建浩 牛夏斌 徐全国 宗世强 
利用直流磁控溅射法在有机玻璃基底上沉积掺杂氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜,在室温条件下,研究了溅射功率、溅射气压、靶基距和氧氩流量比等工艺参数对ITO薄膜光电性能的影响。结果表明,ITO薄膜的透光率随溅射功率和靶基距的增大而减小,...
关键词：ITO薄膜 直流磁控溅射法 溅射功率 溅射气压 光电性能 
探究直流磁控溅射下工艺参数对SiC薄膜性能的影响规律被引量：1
《真空》2022年第4期52-55,共4页张健 李建浩 齐振华 
针对脉冲激光法和升华法制备SiC薄膜时,沉积速率比较低、薄膜厚度不均匀等问题,本文采用真空直流磁控溅射技术,利用一种高含碳量的SiC靶材,在平面玻璃衬底表面沉积SiC薄膜,通过改变直流电源功率、溅射气压,研究了不同参数对薄膜沉积速...
关键词：SiC 直流磁控溅射 直流溅射功率 溅射气压 
直流磁控溅射法制备GZO薄膜及其结构和光电性能的研究被引量：3
《真空科学与技术学报》2022年第4期311-316,共6页张健 齐振华 李建浩 牛夏斌 唐智聪 
为了提高GZO薄膜性能的稳定性,在溅射温度为室温、气压为0.2 Pa、靶基距为100 mm等工艺条件下,利用直流磁控溅射法在氧化铝基底上沉积超厚型的镓掺杂氧化锌(GZO)薄膜,并探究不同溅射功率对GZO薄膜的表面生长方式、内部晶体取向和光电性...
关键词：直流磁控溅射 透明导电薄膜 GZO薄膜 晶体结构 光电性能 
直流磁控溅射对异形工件内表面沉积薄膜性能的影响被引量：1
《真空科学与技术学报》2022年第3期223-227,共5页张健 李建浩 齐振华 徐全国 唐智聪 
对于表面形状复杂的异形工件,在薄膜沉积过程中由于受到阴影效应的影响,将会造成薄膜厚度的不均匀以及表面性能和结构的差异,工件在应用过程中容易导致表面失效,降低其使用寿命。为了在异形工件表面获得厚度均匀的薄膜,本文采用直流磁...
关键词：异形工件 直流磁控溅射 工作气压 衬底温度 厚度均匀性 
射频磁控溅射对PET基材制备铝薄膜的性能影响被引量：1
《真空》2021年第4期21-24,共4页张健 牛夏斌 李建浩 齐振华 
针对传统制铝技术,为提高膜层结合力、阻隔性,采用射频磁控溅射镀铝工艺,制备纯铝高阻隔性膜层,在PET塑料薄膜表面沉积纯铝的实验。通过对射频电源功率和溅射气压等参数的改变,探究射频功率、溅射气压对薄膜结合力、阻隔性的影响。结果...
关键词：铝 高阻隔薄膜 射频磁控溅射 射频功率 溅射气压 
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