广达研发设计中心  

机构地区：[1]大元联合建筑师事务所

出　　处：《建筑创作》2005年第10期14-14,共1页ArchiCreation

摘　　要：广达研发中心坐落于林口华亚科技园区,基地面积约2 8ha,业主投下巨资计划兴建一座地下三层,地上七层,足以代表企业高科技形象,并可容纳5000位研究人员与设备的综合性研发及训练中心,以满足企业未来发展扩充之需求.另外,为延续广达计算机长久以来对人文艺术活动之支持与关怀,本案也将包括一座专门收藏有关科技发展史之科技博物馆,开放供一般大众参观.如何有效利用土地,满足复杂机能需求,增加空间使用弹性及多样化,同时创造优质办公环境,并营造出业主所期望之校园空间质感,成为本设计案之主要挑战.

关 键 词：研发中心 设计中心 科技博物馆 科技发展史 科技园区 训练中心 研究人员 艺术活动 高科技 

分 类 号：F124.3[经济管理—世界经济] TP391.72[自动化与计算机技术—计算机应用技术]