用激光分子束外延在Si衬底上外延生长La_(1-x)Sr_xMnO_3单晶薄膜  

作　　者：何萌[1] 吕惠宾[1] 黄延红[1] 赵昆[1] 田焕芳[1] 相文峰[1] 陈正豪[1] 周岳亮[1] 金奎娟[1] 李建奇[1] 杨国桢[1] 

机构地区：[1]中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室,北京100080

出　　处：《中国科学（G辑）》2005年第6期625-630,共6页

基　　金：国家自然科学基金重点项目(批准号:10334070);国家重点基础研究发展规划项目(批准号:2004CB619004)资助

摘　　要：采用SrO和SrTiO3作为缓冲层,用激光分子束外延在Si(100)衬底上成功地外延生长出La1-xSrxMnO3(x=0.1,0.2,0.3)(LSMO)单晶薄膜.锐而清晰的反射式高能电子衍射仪(RHEED)的衍射条纹和持久的RHEED强度振荡,表明LSMO薄膜是很好的二维层状外延生长.X射线衍射和高分辨透射电镜分析结果证明,在Si基底上获得了很好外延生长的LSMO薄膜,LSMO薄膜为C取向的单晶薄膜.并在室温条件下观测到很好的LSMO/Sip-n结I-V整流特性.

关 键 词：激光分子束外延 外延生长 SI衬底 La1-xSrXMnO3薄膜 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理] TQ174.758[理学—物理]