Nb/si多层膜中晶态硅化物的相演化  

作　　者：张明[1] 于文[1] 张君[1] 张远仪 王文魁[1] 

机构地区：[1]中国科学院物理研究所,北京100080

出　　处：《科学通报》1996年第11期989-992,共4页Chinese Science Bulletin

摘　　要：由于在电子元件和基础领域方面的应用,硅化物的形成问题近年来一直是人们十分关注的问题之一。近几年对许多金属/硅膜系统的低温退火行为过程中的相演化问题开展了广泛的研究,但在非平衡沉积过程中动力学和热力学因素对相选择和相形成的影响问题还没有搞清楚。长期以来,金属/硅系统在退火过程中的某一时刻只有单一相形成,但在近年来在许多单晶Si和沉积在其上的金属膜之间发现了多相共存的现象,而其原因还在探讨之中。

关 键 词：多层膜 硅化物 相演化 硅 晶态 铌 

分 类 号：O484.5[理学—固体物理]