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机构地区:[1]广州有色金属研究院,清华大学
出 处:《广东有色金属学报》1996年第1期51-55,共5页Journal of Guangdong Non-Ferrous Metals
摘 要:本文用离子注入Xe原子双标记法和O18示踪技术研究铝阳极氧化机理,用卢瑟福背散射(RBS)技术分析Xe原子的分布及膜厚,月二次离子质谱(SIMS)技术分析O18的分布.结果显示这种研究方法能清楚地得到在阳极氧化过程中新氧化物的生成区域以及阴、阳离子的迁移情况.在铬酸铵溶液中,铝恒流阳极氧化的机理为;在电流的作用下,铝离子和氧离子相对运动,基体中铝离子向溶液-氧化膜界面移动,而溶液中的氧离子向氧化膜-金属界面移动,并在这两个界面相遇发生反应生成新的氧化物.电流密度越大,氧离子迁移越多,在氧化膜-金属界面生成的新氧化物也越多.The method of implanting Xe ions markers and the O18 tracing method are used to study the mechanism of anodic oxidation on Al, RBS technique is applied to analyze Xe profiles along the anodic oxidation films and the thickness of the films, and SIMS technique is applied to analyze the O18 profiles. It is shown that the growth regions of the new oxides and the migration of canons and anions can be found by this method. In the ammonium chromate solution, the new oxides are formed both at the solution/oxide interface and the oxide/metal interface by the migration of Al canons towards the solution/oxide interface and O anions towards the oxide/metal interface and then by the reaction between the two ions at the two interfaces. The higher the current density and the more the oxygen ions migrated, the more new oxides will be formed at the oxide/metal interface.
分 类 号:TQ153.6[化学工程—电化学工业]
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