对两种印模法无牙上颌模型的测量分析  

作　　者：徐颂成[1] 宋冬生[1] 张立君 

机构地区：[1]江苏省人民医院口腔科,南京210029 [2]徐州矿务局职工二附口腔科

出　　处：《口腔医学纵横》1996年第3期152-153,共2页Journal of Comprehensive Stomatology

摘　　要：作者对6例牙列缺失患者,采用开、闭口两种印模法,制取12副上颌模型。分别测量腭穹窿的高度和宽度,进行比较分析。结果闭口印模灌注的石膏模型,其腭穹窿图的高度(垂直线段)和宽度(水平线段),绝大多数都略长于开口印模对应的线段,经t检验P<0.05。采用闭口印模法,基托下软组织腭顶部压缩量0.40±0.31mm,腭侧壁压缩量0.34±0.28mm。因此闭口印模法是一种功能性印模方法,可能更符合基托下组织在功能活动中的状态。

关 键 词：闭口印模 无牙颌 腭穹窿 模型 测量 

分 类 号：R783.4[医药卫生—口腔医学] R783.6[医药卫生—临床医学]