应用于离子注入的RFQ加速器  

RFQ accelerators for ion implantation

作　　者：方家驯[1] 颜学庆[1] 郭之虞[1] 李纬国[1] 郭菊芳[1] 于茂林[1] 陆元荣[1] 高淑丽[1] 于金祥[1] 宋执中[1] 任晓堂[1] 陈佳洱[1] 

机构地区：[1]北京大学重离子物理研究所,北京100871

出　　处：《核技术》2006年第2期140-144,共5页Nuclear Techniques

基　　金：国家自然科学基金重点项目(19335010;19975004)

摘　　要：射频四极场(Radio frequency quodrupole,RFQ)加速器是一种非常适于用作MeV级能量离子注入的加速器。它具有束流强、体积小、使用方便、离子源处在地电位,还可同时加速正、负两种离子等优点。本文介绍了RFQ加速器在国际上的发展状况及其基本原理、北京大学研制的1 MeV RFQ加速器的具体结构、性能以及一种新型RFQ-SFRFQ组合加速器的特点。RFQ accelerators are very suitable for the ion implantation at the energy level of MeV. They have the advantages such as strong beam current, small size, convenient use, ion source at ground potential and simultaneous acceleration of both positive and negative ions. In the paper, the development, situation and the principle of RFQ accelerators, the structure and performance of 1.0 MeV RFQ accelerator at Peking University and a new type of RFQ-SFRFQ combined accelerator are introduced.

关 键 词：射频四极场 整体分离环射频四极场 分离作用射频四极场 离子注入 

分 类 号：TL53[核科学技术—核技术及应用]