检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
出 处:《半导体技术》2006年第3期243-244,共2页Semiconductor Technology
摘 要:2006年是半导体清洗技术和市场发展非常重要的一年。从全球发展趋势来看,45nm生产工艺研发已经浮出水面,包括FSI国际在内的国际主流厂商开始为45nm工艺表面处理进行技术和产品上的准备。而对于国内集成电路制造行业,在后道封装行业发展进一步加速、Micron等许多国际知名厂家纷纷宣布在华建厂的同时;前道生产能力的将在提升产能的同时快速扩张转向更高阶的技术,因而在2006年将可以明晰地看到各种前道厂商新的加工精度和产能策略。
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