等离子体氢处理对Si-SiO_2结构的影响  

作　　者：蔡跃明 吕世骥[2] 

机构地区：[1]南京通信工程学院理化室 [2]南京大学微电子中心

出　　处：《半导体技术》1990年第4期45-46,共2页Semiconductor Technology

摘　　要：本文研究了等离子体氢处理对Si-SiO_2结构的影响。结果表明,Si-SiO_2结构经等离子体氢处理后,其界面特性变差。

关 键 词：SI-SIO2 等离子体氢 结构 

分 类 号：TN304.12[电子电信—物理电子学]