二元光学元件制作误差的振幅矢量分析法  

Amplitude vector analytics of binary optical element fabrication errors

作　　者：谈苏庆[1,2] 周进[1,2] 高文琦[1,2] 

机构地区：[1]南京大学物理系 [2]南京动力高等专科学校

出　　处：《激光技术》1996年第5期308-312,共5页Laser Technology

基　　金：江苏省自然科学基金

摘　　要：本文用振幅矢量法分析二元光学元件的制作误差对衍射效率的影响，以四位相台阶光栅为例导出了衍射效率与对位误差、刻蚀深度误差的解析式并进行了讨论。This paper analyses the fabrication errors of binary optical elements exerting an influence on diffraction efficiency through amplitude vector analytics.In terms of the four level element,the analytical formula about the diffraction efficiency,aim error and the error of etching depth is deduced and discussed.This method has the universal sense for 2 n level binary optical elements.

关 键 词：振幅矢量法 二元光学元件 制作误差 衍射效率 

分 类 号：O436[机械工程—光学工程] TN205[理学—光学]