全方位离子注入技术概述  

作　　者：陈元儒[1] 蔡光军[1] 

机构地区：[1]西南交通大学

出　　处：《铁道物资科学管理》1996年第4期41-42,共2页Railway Materials Management

摘　　要：等离子体源离子注入（ＰＳⅡ）是８０年代末在常规离子注入基础上发展起来的材料表面改性技术。具有设备结构简单、工件注入处理时间短、成本低、全方位注入等特点。本文概述了ＰＳⅡ技术的原理及发展，并对ＰＳⅡ应用的典型实例及所存在的问题作了说明。

关 键 词：离子注入 金属材料 表面改性 热处理 

分 类 号：TG156.8[金属学及工艺—热处理]