先进光刻技术大步向前  

作　　者：Aaron Hand 

机构地区：[1]Semiconductor International

出　　处：《集成电路应用》2006年第5期22-22,共1页Application of IC

摘　　要：正如半导体国际杂志上所说的那样，在今年的SPIE Microlithography会议上，光刻领域的技术专家们共聚一堂并发表了他们的最新研究成果。毫无疑问本次会议将会产生更多的新闻和技术热点，而近来公布的一些关于前沿浸没式光刻技术和极紫外光刻技术（EUV）的新闻以及研究成果已经受到了广泛的关注和极大的重视。

关 键 词：极紫外光刻技术 研究成果 SPIE 技术专家 技术热点 半导体 浸没式 会议 新闻 

分 类 号：TN2-27[电子电信—物理电子学] TP305[自动化与计算机技术—计算机系统结构]