催化增强化学蒸气沉积法在聚酰亚胺上沉积钯-铂合金薄层(英文)  

Formation of Palladium-Platinum Alloy Films on Polyimide by Catalyst-Enhanced Chemical Vapor Deposition

作　　者：俞开潮[1] Yousef Hamadan 程银华[1] 周锦兰[1] 李正佳[2] 于澍燕[3] 焦庆[3] 

机构地区：[1]华中科技大学化学系 [2]武汉光电国家实验室,武汉430074 [3]中国科学院化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室,北京100080

出　　处：《无机化学学报》2006年第5期789-794,共6页Chinese Journal of Inorganic Chemistry

基　　金：国家自然科学基金(No.20275011);武汉光电国家实验室基金资助项目

摘　　要：以N2,O2作载气,通过催化增强化学蒸气沉积(CECVD)分别制得在聚酰亚胺上的金属铂、钯及其合金薄层。铂、钯配合物的共同沉积可生成Pt-Pd合金薄膜。在Pd-Pt合金的沉积过程中,Pd/Pt的原子数比率随共同沉积的条件改变而变化。O2为载气、300℃条件下,用Pd(η3-allyl)(hfac)和Pt(COD)Me2作前驱体共沉积制备Pd-Pt合金,得到含Pd37.2%,Pt62.8%且不含碳和氟的合金。Pd, Pt and their alloy films on polyimide were prepared by Catalyst-Enhanced tion （CECVD） under the carrier gas （N2, O2）. Co-deposition of Pd and Pt complexes was Chemical Vapor Deposiused for deposition of alloy film. During the CVD of palladium-platinum alloy, the Pd/Pt atomic ratios varied with co-deposition condi- tions. Co-deposition of Pd（-η^3-allyl）（hfac） and Pt（COD）Me2 under O2 at 300 ℃ p containing palladium of 37.2% and platinum of 62.8%, respectively without the line. roduced palladium-platinum alloy contamination of carbon and fluorine.

关 键 词：催化增强化学蒸气沉积 聚酰亚胺 钯-铂合金 

分 类 号：O614.82[理学—无机化学] TB333[理学—化学]