低掺铝TiN薄膜的XPS，XRD分析研究  

作　　者：辛煜[1,2] 宁兆元[1,2] 金宗明[1,2] 薛青 范叔平[1,2] 

机构地区：[1]苏州大学薄膜材料实验室 [2]苏州大学测试中心

出　　处：《功能材料》1996年第4期377-380,共4页Journal of Functional Materials

摘　　要：本文用多弧离子镀方法制备了Ｔｉ１－ｘＡｌｘＮ（ｘ＜０．３）薄膜，并且运用俄歇电子能谱（ＡＥＳ），Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ），Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）和扫描电子显微镜（ＳＥＭ）等技术对Ｔｉ１－ｘＡｌｘＮ进行测试和分析。结果表明：膜层中除含Ａｌ、Ｔｉ、Ｎ元素外，还出现了一定量的氧；薄膜呈现了（１１１）、（２２２）等晶面的择优取向；薄膜与基底间的附着力较好。

关 键 词：薄膜 择优取向 XPS XRD 钛铝薄膜 

分 类 号：O484.4[理学—固体物理]