InSb薄膜制备工艺技术研究  

A Study of Process Techniques for InSb Thin Film Fabrication

作　　者：刘佩瑶[1] 于成民[1] 王晓雯[1] 

机构地区：[1]沈阳仪器仪表工艺研究所,沈阳市110043

出　　处：《仪表技术与传感器》1996年第2期18-21,共4页Instrument Technique and Sensor

摘　　要：本文介绍了InSb薄膜制备工艺技术的研究成果,系统地阐述了InSb薄膜的工艺机理与制备技术,指出了制备InSb薄膜过程中所需解决的技术关键,并总结了制备InSb薄膜的工艺条件和实验结果.This paper introduces the research results of InSb thin film fab-rication processes, systematically elaborates the key techniques and mechanism of InSb thin film fabrication, and presents the process conditions and experiment results.

关 键 词：薄膜 磁敏元件 制备工艺 

分 类 号：O484[理学—固体物理] TM215.3[理学—物理]