含过渡层氧化铝膜的制备  

作　　者：魏明坤[1] 段明诚 王柱[1] 

机构地区：[1]武汉工业大学新材料研究所

出　　处：《功能材料》1996年第3期279-280,共2页Journal of Functional Materials

摘　　要：用ＣＶＤ法在铝表面同时沉积氧化铝和铜，在热扩散的作用下铜铝形成合金，使氧化铝和铝之间存在连续过渡层。

关 键 词：过渡层 氧化铝 CVD 膜 

分 类 号：TG174.451[金属学及工艺—金属表面处理]