超深亚微米工艺时代集成电路设计领域所面临的技术挑战  

作　　者：蒋安平[1] 

机构地区：[1]北京大学微电子学研究院

出　　处：《中国集成电路》2006年第7期29-33,64,共6页China lntegrated Circuit

摘　　要：集成电路工艺加工能力的不断提高给设计工作带来了多方面需要解决的问题。本文主要探讨目前在集成电路设计领域各个方面的设计技术挑战和研究热点问题。

关 键 词：集成电路工艺 设计领域 设计技术 超深亚微米工艺 加工能力 

分 类 号：TN402[电子电信—微电子学与固体电子学]