热壁LPCVD设备使用中几个问题的探讨  

作　　者：程开富[1] 

机构地区：[1]重庆光电技术研究所

出　　处：《四川真空》1996年第1期21-25,共5页

摘　　要：文章就热壁ＬＰＣＶＤ设备使用过程中出现的几个问题作了较全面的分析，提出了一些解决办法，并就热壁ＬＰＣＶＤ备设出现的故障及设备的维护谈了自己的一点体会。

关 键 词：集成电路 光电器件 热壁LPCVD 薄膜 

分 类 号：TN304.055[电子电信—物理电子学]