硅液相外延的最新进展  

作　　者：江鉴[1] 张仕国[1] 

机构地区：[1]浙江大学材料系,硅材料科学国家重点实验室

出　　处：《物理》1996年第11期666-670,共5页Physics

摘　　要：文章系统综述了硅液相外延最新进展，总结了近期硅液相外延技术在系统改进、低温外延、器件应用等各方面的成果，指出硅液相外延技术将在硅器件制造中发挥更大的作用。

关 键 词：硅液相外延 液相色延系统 超晶格器件 

分 类 号：TN304.12[电子电信—物理电子学] TN304.054