新型感光交联剂的合成及其感光性研究  

作　　者：施宪法[1] 蒋忠良[1] 苏小琳 钟利 谢建军[1] 

机构地区：[1]同济大学化学系,上海200092

出　　处：《科学通报》1996年第21期2013-2014,共2页Chinese Science Bulletin

摘　　要：感光交联剂是微电子工业中光刻工艺所必需的一种重要添加剂.它对曝光光源十分敏感,受特定波长光照时能迅速生成活泼自由基,引发光致抗蚀剂(负性光刻胶)交联固化,合成该化合物对原料4-甲基环己酮的纯度要求高,相应的价格很贵.本文试图应用更为廉价易得的国产原料提高光刻灵敏度.目前我国生产线上使用最广的感光交联剂为日本东洋合成株式会社生产和BAC-M产品,其结构为:乙酰丙酮,合成一类新的感光交联剂,以取代进口的BAC-M.

关 键 词：感光交联剂 合成 感光性 微电子工业 光刻 

分 类 号：TN405.7[电子电信—微电子学与固体电子学]