气相二氧化硅在化学机械抛光领域中的应用  

作　　者：段先健[1] 刘莉[1] 

机构地区：[1]广州吉必时科技实业有限公司

出　　处：《有机硅氟资讯》2006年第8期29-31,16,共4页Silicone and Fluorine Information

摘　　要：气相二氧化硅是利用卤硅烷经氢氧焰高温水解制得的一种无定形二氧化硅产品，该产品的原生粒径在7～40nm之间，产品纯度高，SiO2含量不小于99．8％，是一种极其重要的无机纳米粉体材料。气相二氧化硅由于其优越的稳定性、补强性、增稠性和触变性而在橡胶、塑料、电子、涂料、胶粘剂和密封剂等领域得到广泛的应用。虽然气相二氧化硅的工业化生产可以追溯到上世纪四十年代，但是其核心技术主要掌握在德国、美国、日本和前苏联（乌克兰）等国家，其中德国、美国和日本控制着全球气相二氧化硅90％以上的市场。

关 键 词：气相二氧化硅 化学机械抛光 应用 无定形二氧化硅 产品纯度 SIO2含量 纳米粉体材料 工业化生产 高温水 氢氧焰 

分 类 号：TQ127.2[化学工程—无机化工] TN305.2[电子电信—物理电子学]