氧化多孔硅/聚合物复合膜的折射率  

Effective Refractive Index of Oxidized Porous Silicon/Polymer Composite Films

作　　者：贾振红[1] 涂楚辙[1] 

机构地区：[1]新疆大学信息科学与工程学院,乌鲁木齐830046

出　　处：《光子学报》2006年第8期1149-1152,共4页Acta Photonica Sinica

基　　金：国家自然科学基金(60267001);中国科学院"西部之光";新疆优秀青年学者奖励计划(XJEDU2004E02)资助项目

摘　　要：用Bruggeman模型理论,分析了氧化多孔硅/聚合物复合膜的等效折射率与多孔硅孔隙率、氧化度和嵌入率的关系.实验研究了嵌入PMMA材料的氧化多孔硅/聚合物膜的等效折射率.证实了在多孔硅中嵌入聚合物可使薄膜的光学参量保持稳定.The dependence of effective refractive index on polymer fraction of oxidized porous silicon films with various initial porosities and oxidation degree was given by Bruggeman effective medium model. The effective refractive index of oxidized porous silicon inserted polymer PMMA composite films was studied in experiment. It found experimentally that polymer inserted into pores of porous silicon can enhance the stability of optical parameters of the film.

关 键 词：氧化多孔硅 聚合物 复合膜 折射率 

分 类 号：TN304.12[电子电信—物理电子学] O433[机械工程—光学工程]