脉冲激光沉积(PLD)铜薄膜过程的模拟研究  

Simulation of the Process of Pulsed Laser Deposition of Thin Copper Film

作　　者：段章山[1] 李润玲[1] 王永仓[1] 刘婧[2] 

机构地区：[1]空军工程大学理学院,陕西西安710051 [2]河海大学计算机及信息工程学院,常州213022

出　　处：《空军工程大学学报（自然科学版）》2006年第4期85-88,共4页Journal of Air Force Engineering University(Natural Science Edition)

基　　金：国家自然科学基金资助项目(60171043);西北工业大学博士论文创新基金(200242)资助项目

摘　　要：通过对PLD技术中的等离子体的产生及传播理论的分析,对等离子体的传播规律及基片平面上粒子浓度、速度的分布进行了模拟研究;讨论了PLD技术中等离子体的输运机理,为PLD薄膜制备提供了理论参考。By mathematics and theoretic mode, the process of pulsed laser deposition of thin copper film is studied. The evolvement of plasma generated by the pulsed laser is simulated and based on this the distributions of consistence and velocity are discussed. Moreover, the physics mechanism in the process of pulsed laser deposition is explained. The results obtained are compared with the experiments and other articles.

关 键 词：脉冲激光沉积 铜薄膜 等离子体 模拟研究 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]