非晶Si_3N_4在ZrN/Si_3N_4多层膜中的赝晶晶化和生长  

作　　者：刘艳[1] 董云杉[1] 曾豪[1] 李戈扬[1] 

机构地区：[1]上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海200030

出　　处：《电子显微学报》2006年第B08期93-94,共2页Journal of Chinese Electron Microscopy Society

基　　金：国家自然科学基金资助项目(No.50571062)

关 键 词：纳米多层膜 SI3N4 外延生长 非晶态 ZRN 晶化 模板效应 TiN 

分 类 号：TN304[电子电信—物理电子学]