检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:徐志敏
机构地区:[1]国营建光机器厂
出 处:《电子工业专用设备》1989年第1期12-13,共2页Equipment for Electronic Products Manufacturing
摘 要:靶室是离子注入机的关键部件之一,它对于提高注入机的注入速度、注入质量以及使注入机能开展多方面的实验研究,都有一定的影响。我厂研制的T45 200—1/ZK型微控中束流离子注入机靶室是仿日本真空技术株式会社200—DF_4型离子注入机而设计的一种木马式连续注入靶室。下面就该靶室总体情况作简要介绍。
分 类 号:TN305.3[电子电信—物理电子学]
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