高反膜的计算机模拟及对实践的指导意义  

Computer simulation of high-reflection films and its application to practice

作　　者：舒雄文[1] 田增霞[1] 徐晨[1] 沈光地[1] 

机构地区：[1]北京工业大学电子信息与控制工程学院,北京市光电子技术实验室,北京100022

出　　处：《光电工程》2006年第11期142-144,共3页Opto-Electronic Engineering

基　　金：国家973基金资助项目(G200068302);北京市教委基金资助项目(KM200310005009)

摘　　要：本文利用计算机对多层介质高反膜反射谱的模拟发现,当构成高反膜系的高、低两种折射率材料的光学厚度不一致时,反射带两侧的第一个谷值的大小将不同,据此作者认为在高反膜镀制时可根据反射带两侧第一个谷值大小情况来调节高反膜中单层膜厚度,实验结果证明了模拟结果的正确性,同时也确证了作者提出的这种方法是可行的。A novel method of adjusting the thickness of the single layer of high and low index materials was put forward according to the computer simulation, which show that the values of the valleys nearest to the reflection band were different when the optical thicknesses of the high and low index materials were different. The experiment results verified the validity of the simulation and confirmed the feasibility of the method.

关 键 词：高反膜 四分之一波长 光学厚度 物理厚度 

分 类 号：TB8[一般工业技术—摄影技术] TN248.4[电子电信—物理电子学]