CVD金刚石膜紫外光探测器  

Latest Progress in Fabrication of Ultraviolet Detectors with Diamond Films Grown by Chemical Vapor Deposition

作　　者：马莹[1] 王林军[1] 刘健敏[1] 楼燕燕[1] 夏义本[1] 

机构地区：[1]上海大学材料科学与工程学院,上海200072

出　　处：《真空科学与技术学报》2006年第6期475-481,共7页Chinese Journal of Vacuum Science and Technology

基　　金：国家自然科学基金(No.60577040);上海市重点学科建设项目(No.T0101)

摘　　要：宽禁带半导体金刚石具有许多独特特性,基于此种材料的紫外光探测器能在高温、强腐蚀和强辐射等恶劣环境下工作,成为近年来紫外探测技术研究的重点课题之一。本文综述了CVD金刚石膜紫外光探测器的研究及应用进展。The latest progress in fabricating ultraviolet detector with diamond films, grown by chemical vapor deposition（CVD）, was tentatively reviewed with discussion focused on diamond film growth, the detector structure and related technologies.

关 键 词：金刚石膜 紫外光 探测器 性能 

分 类 号：TN36[电子电信—物理电子学]