离子束辅助真空电弧沉积Zr—Ni—N薄膜的研究  

Investigation of Zr-Ni-N Film Prepared by VAD with Ion Beam Enhanced Deposition

作　　者：吴健[1] 胡社军[2] 曾鹏[2] 李宇恒[2] 谢光荣[2] 

机构地区：[1]广东工业大学材料与能源学院,广州市工程师在读研究生510643 [2]广东工业大学

出　　处：《工具技术》2006年第12期15-17,共3页Tool Engineering

基　　金：国家自然科学基金资助项目(项目编号:50271019);广东省教育厅自然科学研究项目(项目编号:020075)

摘　　要：采用多弧离子镀技术在高速钢和单晶硅基体上制备Zr-Ni-N复合薄膜,研究了低能氮离子束对Zr-Ni-N涂层结构、表面形貌和硬度的影响。研究表明:用低能氮离子束辅助真空电弧沉积Zr-Ni-N膜,ZrN结构在(111)晶面出现一定的择优取向,并对Zr-Ni-N膜层有一定的强化作用,膜层表现出较高的显微硬度。Zr-Ni-N coextruded film is deposited on high speed steel and single crystal silicon slice by using vacuum arc deposition technique. The influences of low energy nitrogen ion beam aid deposition on coming structure, morphology and hardness of Zr-Ni-N film are studied, the results show that bombarding to Zu-Ni-N film with low energy ion beam, ZrN phase with （ 111 ） preferential orientation can be tormed and strengthened Zr-Ni-N film and the microhardness of the fihn is increased.

关 键 词：离子束 真空多弧离子镀 Zr-Ni-N薄膜 

分 类 号：TG174.444[金属学及工艺—金属表面处理]