多孔硅的形成及其在表面微机械技术中的应用  

作　　者：王新君[1] 赖宗声[1] 王云珍[1] 

机构地区：[1]华东师范大学电子科学技术系

出　　处：《半导体技术》1996年第6期38-41,共4页Semiconductor Technology

基　　金：传感技术国家重点实验室资助;国家自然科学基金;中科院核分析技术开放研究实验室资助

摘　　要：介绍了多孔硅的基本特性及其形成的选择性，最后介绍了多孔硅在表面微机械技术中的应用。

关 键 词：多孔硅 形成 表面微机械技术 

分 类 号：TN304.12[电子电信—物理电子学] TN305.2