SJ2240中的中子嬗变掺杂技术和NTD硅质量问题的探讨  

作　　者：卢存纲 

出　　处：《电子工业标准化通讯》1990年第5期33-34,17,共3页

关 键 词：中子嬗变 NYD硅 掺杂 

分 类 号：TN304.12[电子电信—物理电子学]