电子助进化学气相沉积金刚石中发射光谱的空间分布  

Spatial Distribution of Optical Emission Spectrum in Electron-Assisted Chemical Vapor Deposition of Diamond

作　　者：董丽芳[1] 王志军[1] 尚勇[1] 

机构地区：[1]河北大学物理科学与技术学院,河北保定071002

出　　处：《光谱学与光谱分析》2007年第1期15-17,共3页Spectroscopy and Spectral Analysis

基　　金：国家自然科学基金项目(10575027);河北省自然科学重点基金项目(A2006000950)资助

摘　　要：采用蒙特卡罗方法，对以CH4／Hz为源料气体的电子助进化学气相沉积（EACVD）金刚石中的氢原子（Hα,Hβ，Hγ）、碳原子C（2p3s→2p^2：λ=165．7nm）以及CH（A^2△→X^2Ⅱ：λ=420～440m）的发射过程进行了模拟，研究了不同CH4浓度下各发射谱线的空间分布。结果表明，不同CH4浓度下各发射谱线在反应空间的大部分区域内均随距灯丝距离的增大而增大，而当到达基片表面附近时有所减弱。随着CH4浓度的增加，H谱线强度减弱，CH与C谱线强度增强。The optical emission process of atomic hydrogen （Hα,Hβ,Hγ）, atomic carbon C（2p3s→2p^2：λ=165.7nm） and radical CH（ A^2△→X^2Ⅱ：λ=420～440m） in diamond film growth by electron-assisted chemical vapor deposition （EACVD） from a gas mixture of CH4 and H2 was studied using Monte-Carlo simulation. Spatial distributions of the emission lines were investigated. The spatial distributions of intensity of all these emission lines were the same on the whole, which increases with the distance from the filament and decreases near the substrate. The intensity of atomic hydrogen lines decreases with increasing CH4 concentration, while that of CH and atomic C lines increases with increasing CH4 concentration.

关 键 词：电子助进化学气相沉积 金刚石 空间分布 发射光谱 

分 类 号：O539[理学—等离子体物理]