高纯氧化铈和氧化镨中痕量杂质元素的火花源质谱测定  被引量:1

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作  者:隋喜云[1] 王子树[1] 许隽美 刘长路[1] 温津[1] 

机构地区:[1]中科院长春应用化学研究所国家电化学和光谱分析研究中心,长春130022

出  处:《分析化学》1996年第12期1471-1471,共1页Chinese Journal of Analytical Chemistry

关 键 词:氧化铈 氧化镨 杂质 火花源质谱法 

分 类 号:O614.33[理学—无机化学] O657.6[理学—化学]

 

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