无掩模表面等离子激元干涉光刻  

作　　者：杜惊雷[1] 郭小伟[1] 郭永康[1] 罗先刚[2] 杜春雷[2] 

机构地区：[1]四川大学物理科学与技术学院纳光子技术研究所,成都610064 [2]中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术重点实验室,成都610209

出　　处：《激光与光电子学进展》2007年第2期18-18,共1页Laser & Optoelectronics Progress

基　　金：国家自然科学基金(60676024;60376021;60507014);973计划项目(2006CB302900);教育部博士点基金资助。

摘　　要：采用表面等离子激元近场增强技术可改善纳米干涉光刻成像质量,有效实现微纳米结构快速、高效、低成本制作,在传统微细加工技术较难发挥作用的一些纳米光子器件加工领域有很好应用前景。

关 键 词：表面等离子激元 干涉光刻 纳米光子器件 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]