双电荷离子注入技术  

作　　者：张义强 郑宜钧 刘显明 

机构地区：[1]中国华晶电子集团公司,无锡214035

出　　处：《微电子技术》1996年第1期42-45,共4页Microelectronic Technology

关 键 词：离子注入 集成电路 双电荷离子注入 

分 类 号：TN405.3[电子电信—微电子学与固体电子学]