紫外正性光致抗蚀剂的研究进展及应用现状  

Research progress and application status of UV positive photoresist

作　　者：宛盼盼[1] 佘万能[1] 沈革新[1] 屈秀宁[1] 吕仁亮[1] 

机构地区：[1]湖北省化学研究院,武汉430074

出　　处：《化工新型材料》2007年第5期1-4,共4页New Chemical Materials

摘　　要：酚醛树脂-重氮萘醌型正性光致抗蚀剂主要适用于436nm（G线）-365nm（Ⅰ线）的紫外曝光区域，是目前电子和PS版工业中使用最多的正性抗蚀材料。本文介绍了近年来该类抗蚀剂的国内外进展情况，并对其各个组分进行了归纳综述。Novolac-DNQ positive photoresist was mainly used in 436nm（G line） -365nm （Ⅰ line） ultraviolet exposure region, it＇s now the largest resists used in electronics and PS plate industry. The recent progress at home and abroad of such resists, and the sum of its various components were reviewed.

关 键 词：光致抗蚀剂 重氮萘醌 酚醛树脂 

分 类 号：TN23[电子电信—物理电子学]