具有任意图形编码的二值位相光栅的制作  

Fabrication of Binary Phase Gratings with Arbitrary geometry Coding scheme

作　　者：桑涛[1] 廖江红[2] 卢振武[2] 赵晶丽 翁志成 

机构地区：[1]中国科学院上海技术物理研究所 [2]中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室

出　　处：《光学精密工程》1997年第1期10-15,共6页Optics and Precision Engineering

摘　　要：基于大规模集成电路加工技术介绍具有任意图形编码的二值位相光栅的制作过程。其中包括振幅掩模母版的制作和掩模图形的转移两部分。针对制作的２５×２５扇出的Ｄａｍｍａｎｎ光栅，给出了实测结果，即：扇出点光强的均匀性偏差（以最大相对偏差来衡量）为９．７％，光栅的二维衍射效率为８０．６５％（除去光栅基板对光的两次反射作用）。In this paper,the fabrication of binary phase gratings with arbitrary geometry coding scheme has been represented based on the VLSI technology,which includes mask making and pattern transfering.For the fabricated 25×25 fan out Dammann grating,the tested results are given as :the fan out uniformity deviation (the maximum relative deviation)is 9 7%,the 2D diffraction efficiency is 80 65%(without consideration of the reflection loss).At last the effects of fabrication errors are analyzed.

关 键 词：光栅 衍射 VLSI 光学信息处理 

分 类 号：TH741.6[机械工程—光学工程]