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作 者:张颖丽[1] 李保泉[1] 孙宏晨[1] 杨柏[2]
机构地区:[1]长春吉林大学口腔医院,130041 [2]吉林大学化学学院
出 处:《实用口腔医学杂志》2007年第4期540-542,共3页Journal of Practical Stomatology
基 金:吉林大学创新基金项目(编号:2002-87);吉林省科技发展计划项目(编号:20060510)
摘 要:目的:研究熔附温度和熔附时间对多微孔纳米二氧化硅粒子(SP1 SiO2)表面结构及形态的影响。方法:将SP1SiO2以250℃/h的升温速度分别升至500、650、800、950、1100℃,并分别保持10、30min和3h制作试样,进行表面结构及形态测试。结果:随烧结温度的增高和时间的延长,SP1 SiO2颗粒表面的Si-OH键特征峰值逐渐减弱,条件为950℃、10min和30min,650℃、3h时完全消失;随着熔附温度的升高和熔附时间的延长颗粒增大、粒度分布变窄。结论:熔附温度和熔附时间影响SP1 SiO2颗粒表面的Si-OH含量和颗粒大小、粒度分布。Objective: To evaluate the influence of fusing conditions on the surface structure and morphology of the SP1 SiO2. Methods:The SP1 SiO2 samples were sintered under 500,650, 800,950 and 1 100 ℃ at a rate of 250 ℃/h and maintained for 10, 30 min, 3 h respectively. The surface structure was characterized by FT-IR. Results:The characteristic peak of Si-OH bond at 958 cm^-1 took off gradually with the rising temperature and prolonged time. Under the conditions of 950 ℃ maintained for 10 rain and 30 rain, and 650 ℃ maintained for 3 h, it disappeared completely. The particles of the SP1 SiO2 became larger while the size distribution became narrow. Conclusion: Fusing conditions can affect the Si-OH content and the size of the SP1 SiO2, as well as the size of distribution.
关 键 词:多微孔纳米二氧硅粒子 熔附条件 表面结构 形态
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