深蚀刻二元光学元件制作误差模拟  

Fabricaion Errors Simulation of Deep Etched Binary Optics Elements

作　　者：徐平[1] 唐继跃[1] 庞霖[1] 郭履容[1] 郭永康[1] 

机构地区：[1]四川大学信息光学研究所

出　　处：《中国激光》1997年第6期536-542,共7页Chinese Journal of Lasers

基　　金：湖北省教委青年基金;国家自然科学基金

摘　　要：用计算机研究并给出了深蚀刻二元光学元件制作误差对衍射效率影响的规律；将深刻蚀二元光学元件与一般二元光学元件制作误差规律的不同之处进行了分析说明；In this paper, we investigate and present the law of diffractive efficiency versus fabrication error of deep etched binary optics, and compare differences of the law between the deep etched and the ordinary binary optics technologies. The experience formula, which can better describe the fabrication errors of the deep etched binary optics element, is presented.

关 键 词：制作误差 计算机模拟 深刻蚀 二元光学元件 

分 类 号：O438[机械工程—光学工程]